尚磊科技發表奈米無塵洗淨技術ULTRACLEAN

尚磊奈米無塵洗淨技術

以晶圓洗淨技術清洗無塵衣：自RCA SC1標準洗淨法發想

半導體製造過程中，有塵粒附著在晶圓上時，會造成局部缺陷(pattern defect)。

RCA SC 1 (NH₄OH+H₂O₂+DIW)為廣泛應用於晶圓洗淨的技術。

尚磊科技獨創奈米無塵洗淨技術ULTRACLEAN

尚磊科技深耕無塵洗衣技術二十餘年，將SC1中的氨水(NH₄OH)，以奈米氫氧根負離子水取代，結合自行研發的洗淨程式與藥劑配方，獨創ULTRACLEAN奈米無塵洗淨技術。

經實證，ULTRACLEAN奈米無塵洗淨技術相較傳統無塵洗衣，能有效減少無塵衣洗後一半以上的發塵量。

*同一件無塵衣經穿著使用，每週清洗一次的檢測平均值。不同的無塵衣可能有不同的檢測值。